欢迎光临无锡光刻电子有限公司网站!

搜索
图片展示

“我们比光刻更懂光刻”

“我们比光刻更懂光刻”

接触式光刻机

产品详情

采用紫外光源,实现光刻胶的曝光,将光刻版上的图形转移到光刻胶上,在光刻胶上制作出亚微米(>0.8um)图形结构。

紫外光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。

技术指标:

光源波长:365nm~436nm。

最小线宽:0.8-1.5um。

晶圆尺寸:2-6英寸。

曝光模式:硬接触模式、真空接触模式、

低真空接触模式、软接触模式、接近式接触模式。

对准模式:正面对准和背面对准。


接触式光刻机
长按识别二维码查看详情
长按图片保存/分享

关于我们

公司位于无锡市高新技术园区梅村科技园内,企业围绕无锡市政府打造现代化半导体产业基地的目标,依托长三角完善的半导体工艺产业链和成熟的工业配套能力,聚焦于光刻产品和技术,同时为国内外的泛半导体及微纳加工单位提供光刻设备、材料、工艺及产品一站式解决方案.

 

产品服务

分类标题

联系我们

地址:无锡市新吴区梅村新洲路228号

电话:0510~88156607 

手机:15365227956

邮箱:chen_mess@163.com 

 

© 无锡光刻电子有限公司 2020

技术支持:金石网络