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提供再制造或全新接触式、接近式光刻机(aligner)。
主要功能:
实现光刻胶的曝光,将光刻版上的图形转移到光刻胶上,在光刻胶上制作出亚微米(>0.8um)图形结构。
Aligner光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。
技术指标:
光源波长:220nm~436nm。
最小线宽:0.8-1.5um。
晶圆尺寸:2-6英寸或碎片。
曝光模式:硬接触模式、真空接触模式、
低真空接触模式、软接触模式、接近式接触模式。
对准模式:正面对准和背面对准。
关于我们
公司位于无锡市高新技术园区梅村科技园内,企业围绕无锡市政府打造现代化半导体产业基地的目标,依托长三角完善的半导体工艺产业链和成熟的工业配套能力,聚焦于光刻产品和技术,同时为国内外的泛半导体及微纳加工单位提供光刻设备、材料、工艺及产品一站式解决方案.
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