接触式光刻机

提供再制造或全新接触式、接近式光刻机（aligner）。

主要功能：

实现光刻胶的曝光，将光刻版上的图形转移到光刻胶上，在光刻胶上制作出亚微米（＞0.8um）图形结构。

Aligner光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。

技术指标：

光源波长：220nm~436nm。

最小线宽：0.8-1.5um。

晶圆尺寸：2-6英寸或碎片。

曝光模式：硬接触模式、真空接触模式、

低真空接触模式、软接触模式、接近式接触模式。

对准模式：正面对准和背面对准。