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显影机/刻蚀机 MC 200 D/MC 200 E
我们提供包括匀胶机、显影机、湿法刻蚀机、剥离机,用于小批量和中试生产应用的热板、冷板和HMDS板。
设备应用尺寸从 2 – 12英寸,同时我们也提供超大尺寸工艺制程设备,亦可根据项目需求进行定制化服务。
关于我们
公司位于无锡市高新技术园区梅村科技园内,企业围绕无锡市政府打造现代化半导体产业基地的目标,依托长三角完善的半导体工艺产业链和成熟的工业配套能力,聚焦于光刻产品和技术,同时为国内外的泛半导体及微纳加工单位提供光刻设备、材料、工艺及产品一站式解决方案.
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光刻基材
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