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“我们比光刻更懂光刻”

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光掩膜基板

产品详情

光掩膜基板

又称“匀胶铬版,是电子信息技术的基础支撑材料,是当今微细图形和微纳米加工从设计到图形实现的加工载体;

具有高的感光灵敏度,高分辨率,低缺陷密度,耐磨性好,易清洁,使用寿命长等特点。

当前广泛应用于IC,LCD,TP,LED,精密光学,生物芯片等掩模版的制作。

可以根据客户要求提供不同规格之掩膜基板。

光掩膜基板
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关于我们

公司位于无锡市高新技术园区梅村科技园内,企业围绕无锡市政府打造现代化半导体产业基地的目标,依托长三角完善的半导体工艺产业链和成熟的工业配套能力,聚焦于光刻产品和技术,同时为国内外的泛半导体及微纳加工单位提供光刻设备、材料、工艺及产品一站式解决方案.

 

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