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金属掩膜版
金属掩模版,是通过激光或者光刻刻蚀工艺,形成镂空的微结构。
可以应用于电子束蒸发,热蒸发,磁控溅射等设备中,用来制备太阳能电池,光电探测器,LED,激光器,场效应晶体管等各种器件电极及各种薄膜材料图形设计。
我们可以提供高规格的金属掩膜版:
(1)孤立线条:<5um
(2)密集线条:<10um
(3)金属厚度:10~150um
关于我们
公司位于无锡市高新技术园区梅村科技园内,企业围绕无锡市政府打造现代化半导体产业基地的目标,依托长三角完善的半导体工艺产业链和成熟的工业配套能力,聚焦于光刻产品和技术,同时为国内外的泛半导体及微纳加工单位提供光刻设备、材料、工艺及产品一站式解决方案.
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