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“我们比光刻更懂光刻”
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电子束光刻机
电子束曝光机，可以实现20nm以下精度要求的微纳加工，兼容2-8英寸不同产品应用需求，可广泛应用于半导体、人工智能、生物医疗、科研开发等应用场景。
产品详情
主要技术指标：
- 样片尺寸：8/6/4 inch wafer
- 加速电压：100kV/50kV
- 最小束斑直径：≤8nm
- 主场尺寸：可至800μm
- 主场拼接精度：≤±20nm
- 套刻精度：≤±20nm
- 最小线宽：≤10nm
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