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“我们比光刻更懂光刻”
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电子束光刻机
电子束曝光机，可以实现20nm以下精度要求的微纳加工，兼容2-8英寸不同产品应用需求，可广泛应用于半导体、人工智能、生物医疗、科研开发等应用场景，适用于光栅、T形栅、超透镜超表面、微纳线孔等工艺。
产品详情
主要技术指标：
- 样片尺寸：8/6/4 inch wafer
- 加速电压：100kV/50kV
- 最小束斑直径：≤8nm
- 主场尺寸：可至1000μm
- 主场拼接精度：≤±20nm
- 套刻精度：≤±20nm
- 最小线宽：≤10nm
- ***扫描频率：≥100MHz
- 束流稳定度：≤±0.6%/小时
- 束斑位置稳定性：≤50nm/小时
- 束流范围：100pA~100nA
- 曝光均匀性：≤±5%
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