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销售电子束光刻机,并提供配套工艺开发。
主要功能:
电子束光刻机采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义,可实现纳米量级的精度,满足超紧凑和超精细的纳米结构设计,是集成电路微纳器件以及特种芯片和半导体精密掩膜制造的关键技术,是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。
技术指标:
加速电压:25KV/50KV/100KV/125KV
最小线宽:5nm~10nm
拼接误差:>20nm
晶圆尺寸:2-8英寸 or 掩膜版
关于我们
公司位于无锡市高新技术园区梅村科技园内,企业围绕无锡市政府打造现代化半导体产业基地的目标,依托长三角完善的半导体工艺产业链和成熟的工业配套能力,聚焦于光刻产品和技术,同时为国内外的泛半导体及微纳加工单位提供光刻设备、材料、工艺及产品一站式解决方案.
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