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电子束光刻机
产品详情
电子束光刻机
电子束光刻机采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义，可实现纳米量级的精度，满足超紧凑和超精细的纳米结构设计，是集成电路微纳器件以及特种芯片和半导体精密掩膜制造的关键技术，是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。
加速电压：25KV/50KV/100KV/125KV
最小线宽：5nm~10nm
拼接误差：>20nm
晶圆尺寸：2-8英寸 or 掩膜版
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